电子和光学器件

提高质量和产量。降低成本。

挑战

总污染控制对于提高过程产量至关重要,并且在质量和可靠性方面保持竞争力。但维持高标准和持续改进正在成为微电子和光学制造商的挑战。

颗粒状较好,需要更高,更高的过滤等级捕获。与此同时,制造商正在将流程迁移到干净的环境中。洁净室的尺寸越来越大,以应对地板空间的额外需求。但较大的洁净室意味着更大的领域,以保持清洁 - 员工,设备和材料的更多机动,访问和出口。

产品也变得更加复杂。- 在新兴市场的洁净室中获得更大的竞争 - 失败不如以往任何时候都无法忍受。

但也许微电子和光学制造商面临的最大挑战是能源效率。诸如建筑物指令的能源绩效(EPDB)等立法要求,自2020年以来,所有新的非公共建筑都必须近零能量。这与2025年的能源价格上涨的预期的两位数增加,正在对洁净室施加前所未有的压力操作员找到降低能耗的新方法。

解决方案

Mann + Hummel的洁净室过滤有助于您迎接经营微电子或光学生产设施的挑战。

要响应更精细的微粒威胁,我们可以调查您的设施并确定您所面临的污染物。然后我们可以拨打全方位的EPA,HEPA和ULPA过滤器一直到U17来解决威胁。这也由各种框架,外壳和终端插座支持。

谈到质量保证时,您无法在洁净室中接受任何机会。这就是为什么我们投资最新的半自动试验台,可以测试所有相关的ISO和EN标准 - 及以后。您可以选择三个级别的测试 - 从完全可追溯的数据报告到熨烫质量证书 - 或要求您自己的自定义测试。

为帮助您应对管理更大,更复杂的洁净室的需求,我们的褶皱机可以在各种高度,宽度和距离上进行褶皱,以产生所需的过滤器规格。他们也很快。因此,我们现在可以在许多过滤尺寸,类型和效率下提供行业领先的交付时间。随着新的褶皱取向提高压降15-20%,您也可以显着提高空运系统的能耗。

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